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非接觸式膜厚測量儀

非接觸式膜厚測量儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環境下也能穩定工作。
產品品牌： 霍爾德?電子
價格： 我要詢價
廠商性質： 生產廠家
產品時間： 2026-03-13

產品概述

非接觸式膜厚測量儀測試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發出的寬帶光入射至待測薄膜表面后，經薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產生干涉，干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數等關鍵信息，設備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對特定波段范圍內的光譜進行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數及粗糙度等參數，整個系統由高強度組合光源提供寬光譜入射光，經光學系統傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號，最終通過上位機軟件完成數據處理與結果輸出。


非接觸式膜厚測量儀技術參數

型號HD-FT50UVHD-FT50NIR
建議工作距離非聚焦光束，安裝距離5至10mm安裝側面出光附加鏡時：34.5mm±2mm；
軸向出光時：55mm±2mm；
測量角度±10°±5°
光斑類型彌散光斑；在10mm安裝距離時，光斑直徑約為4mm；聚焦光斑；約200μm
探頭外徑*長度Φ6.35*3200mm3Φ20*73mm
探頭重量190g108g（探頭）、49g（附加鏡）
光源類型氘鹵光源鹵素光源
波長范圍190-1100nm400-1100nm；1000-1700nm
測厚范圍約20nm~50μm（折射率1.5時）約50nm~50μm（折射率1.5時）
適配探頭UV-VISVIS-NIR軸向；
VIS-NIR徑向；（標配其一）
可連探頭數量1
探頭防護等級IP40
重復精度0.05nm
準確度<±1nm或±0.3%（取較大值）
采樣頻率Max.100Hz（視求解參數復雜度而定）
測控軟件專用上位機軟件
電源電壓220V±20V50HzAC/
最大功率50W
工作溫度-10至+40℃
相對濕度20%至85%RH（無冷凝）
控制器重量約5000g


非接觸式膜厚測量儀





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